国产蚀刻机争光！芯片曙光到来？台积电成为头号粉丝？美国人垂涎三尺也只能瞪眼傻看！
中国最近几年在科技领域可谓是风头正盛，不断研发出技术领先的高科技设备，迎头追赶西方国家科学步伐的同时，甚至在某些领域超过了其他老牌国家。
这种情况下的我国，必定会让某些国家感到恐慌，而其中最明显的应该就是美国了，但是美国又无法干预我们的自主研发，只能是通过各种侧面打压的方式限制我们，导致我国在科技领域的进步长期处在一个相较缓慢的状态。
值得一提的是，华为的5G技术一经问世，美国当下就跳出来作妖，开始对国产芯片上采取一系列小动作，包括但不限于开始限制中国芯片的进口，还限制一些外国企业为中国企业制造芯片等等。
然而，彼时中国的高科技产业任旧存在一些不足，若是国内半导体行业没有整体水平的上升，那中国在高端芯片领域将永远被牵着鼻子走。
此外，由于中国在半导体领域起步较晚，与西方相比在技术上仍有着不小的差距，而芯片作为电子信息时代中先进尖端技术的代表作，我国芯片制造之路一直受到西方国家的阻挠。
国产芯片技术的发展，也只能摸着石头过河，稍一不留神就会碰得一鼻子灰。可以说中国的芯片发展从一开始就充满了困难和障碍。其中最大的障碍，便是《瓦森纳协定》。
这一协议的起源要追溯到1949年11月，而当时我们建国仅一个月，以美国为首的西方资本主义阵营，就已经对我们产生了相当大的敌意，在美国的牵头下，许多西方国家开始故意建立技术壁垒以遏制我国的发展。
美苏冷战结束后，这种技术制裁变得更肆无忌惮，最终在1996年，美国及其控制下的33个主要西方国家，签署了《瓦森纳协定》。
该协定主要是针对中国顶尖和最先进的技术，如光刻机和蚀刻机。这些技术都在禁运范围内，正因为这份协议，在20世纪初，中国高科技产业的发展几乎停滞不前，只能依赖进口。
这一切都因为一个人而改变，那就是尹志尧，他是世界半导体领域的传奇人物，在技术级产品研究开发方面，他已获得200多项国家专利和86项美国专利，其本人更是几代等离子刻蚀技术和设备工业应用的推动者。
此前一直都在美国工作和生活的他，在60岁时偶然听到祖国被这样压制，他毅然辞去了英特尔高管的职务回到中国创业。
当时还有人不理解尹志尧的决定，说他年入数百万美元，在国外生活极其优越，还是半导体领域的执牛耳者。退休后在美国颐养天年不比回国创业更快乐？
尹志尧并不这么认为，下定决心要回到中国，在2004年，尹志尧带着15人的专业团队来到上海，创立了中微半导体。
尹志尧回国时，中国在芯片设计领域非常空白，基本上没有前人的经验可供他参考，于是尹志尧带领团队就从零开始研究刻蚀机，每个部分都进行独立研发，所需的每个精密高端零件，都经过反反复复的试验后才允许投入使用。
从这时起，中微企业的发展一路绿灯，不久便跻身世界级半导体企业之列，直接占据了9% 的总市场占有率以及世界前三的宝座，中微很快就实现了弯道超车！
这样的成就当然也引起了一些人的眼红，因此十多年来，美国三大半导体设备公司轮流发起了针对中微的起诉，认为中微侵犯了他们的商业机密和专利，想要通过国际诉讼掐灭中微的发展。
尹志尧则表示：成立之初，就不断收到来自美国的有关侵权的法律诉讼，其中大型法律诉讼就不少于五起，然而每一场诉讼无一例外都是中微获胜。因为正义就是正义，无论怎样颠倒黑白都无法改变。
其中美国的维科集团，由于忌惮中微在国内外科技市场上的知名度飙升，非常愤怒的起诉了中微集团的蚀磨盘供应商SDL。
维克集团在纽约法院以专利侵权为由，认为SDL向中微提供的蚀磨盘侵犯了其自身的专利，要求SDL赔偿其巨额损失并停止向中微集团供货。
事后得知事情真相，其实是美国维科集团侵犯了中微的发明专利，美国法院不仅裁定维科集团胜诉，还下令SDL停止与中微的交易！这完全就是黑帮黑！
这件事又怎么会这么轻易结束，中微怎么能被别人随意欺负，也定不会就此罢休。2018年初，中微在得知美国维科集团专利侵权的货物将从上海出口后，立即向海关申请扣留这些物品，最后，这批价值3000多万元的货物被中微扣押。
如此漂亮的翻身仗可让美国维科集团吃了不少苦头，原本不可一世的维科集团也不得不前往中国与中微集团进行谈判。
蚀刻机分为两种：蚀刻和干蚀刻，蚀刻通常取决于化学方法，需要化学液体的参与。然而干蚀刻过程却没有化学液体的参与。
目前，应用最广泛的技术是等离子体干刻蚀法，等离子体的特点是气体的化学活性相对来说比较强，能够准确的通过不同的蚀刻材料匹配更合适的气体，从而更快地响应蚀刻机材料。这种等离子体也可以被电引导和加速。等离子刻蚀机是利用等离子体，在芯片表面雕刻电路图案。
然而，由于等离子体产生的放电模式不同，等离子体蚀刻机也分为两类：JCP蚀刻机和ICP蚀刻机，而这两种分类方法之间有很强的内在逻辑关系，其中内在种种，我们不过多讨论，大家也不必过于纠结。
顾名思义，光刻机则是使用光为介质来描绘和处理微纳米级图形，即光源是光刻机操作的关键之一。
目前，世界上最顶尖的光刻机是荷兰阿斯麦公司的极紫外光刻机，而我国的光刻机技术与阿斯麦公司的光刻机还有很大差距。
说白了，光刻机和刻蚀机都是芯片制作的完整过程中必不可少的两个关键步骤，只有光刻机和刻蚀机两个相互配合，才能造出一枚合格的芯片。
由此可见，那些狂妄者不给我们光刻机，只会对双方都造成了严重的伤害。因为他们想用刻蚀机的话，得先经过我们同意。
尽管如今我们与国外顶尖光刻机的差距已可望其项背，我们也不应该侥幸，而是更应该加倍努力，相信未来我们肯定能够追上国外顶尖光刻机技术！
如今刻蚀机的高端化，使得我国芯片行业迎来了曙光，相信在国内顶尖技术人才的带领下，我国高科技产业定会更加辉煌更加灿烂！